A Fujifilm Corp. anunciou na última segunda-feira um investimento significativo de cerca de 20 bilhões de ienes para expandir sua produção de materiais para semicondutores. O plano inclui a construção de fábricas nas prefeituras de Shizuoka e Oita, visando atender à crescente demanda por materiais avançados, impulsionada pelo aumento do uso de inteligência artificial e comunicações de alta velocidade.
Na cidade de Yoshida, em Shizuoka, a Fujifilm alocará aproximadamente 13 bilhões de ienes para erguer uma nova fábrica equipada com instalações de sala limpa e tecnologia de inspeção. Esta unidade será dedicada ao desenvolvimento, produção e avaliação de qualidade de materiais fotosensíveis de próxima geração e deverá iniciar suas operações no outono de 2025.
Além disso, a empresa investirá cerca de 7 bilhões de ienes em um complexo na cidade de Oita, no sudoeste do Japão. Esta nova instalação aumentará a capacidade de produção de limpadores de semicondutores em cerca de 40%, com previsão de início de operações na primavera de 2026.
Essas iniciativas da Fujifilm refletem a estratégia da empresa em se adaptar à demanda crescente por tecnologia de ponta e fortalecer sua posição no mercado de semicondutores.
